講演・発表紹介
トリケミカル研究所が行なった研究開発の講演・発表をご紹介いたします。
| 題名 | SiBr4を用いた低温ALDによるSiO2成膜 |
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| 発表学会名 | 第79回応用物理学会秋季学術講演会 |
| 2018/9/21名古屋 | |
| 題名 | Realization of High Stable Porous SiOCH Films (k=2.3-2.4, Er=8.0 GPa) using DcPDMOS by O2 Addition and UV Cure |
| 発表学会名 | Advanced Metallization Conference 2008: 18th Asian Session |
| 2008/10/8東京大学 | |
| 題名 | Realization of High Stable Porous SiOCH Films (k=2.3-2.4, Er=8.0 GPa) using DcPDMOS by O2 Addition and UV Cure |
| 発表学会名 | Advanced Metallization Conference 2008: 18th Asian Session |
| 2008/10/8東京大学 | |
| 題名 | Realization of High Stable Porous SiOCH Films (k=2.3-2.4, Er=8.0 GPa) using DcPDMOS by O2 Addition and UV Cure |
| 発表学会名 | Advanced Metallization Conference 2008 (AMC) 2008 |
| 2008/9/23San Diego, U.S.A | |
| 題名 | Chemical Vapor Deposition of Ni-Pt thin film using Pt(PF3)4 and Ni(PF3)4 |
| 発表学会名 | ADMETA 2007 17th Asian Session |
| 2007/10/23東京大学 | |
| 題名 | Pt(PF3)4/Ni(PF3)4を用いたCVD法によるNi-Pt薄膜の堆積 |
| 発表学会名 | 先端半導体研究所ワークショップ |
| 2007/10/6明治大学 | |
| 題名 | W-CVD using biscyclopentadienyltungsten system |
| 発表学会名 | Advanced Metallization Conference 2006 (AMC) 2006 |
| 2006/10/18San Diego, U.S.A | |
| 題名 | Properties of chemical reaction during Ni and Ni-silicide deposition using Ni(PF3)4 and Si3H8 |
| 発表学会名 | Advanced Metallization Conference 2006 (ADMETA2006) |
| 2006/9/26Tokyo,Japan | |
| 題名 | Properties of Ni and Ni-silicide deposition using Ni(PF3)4 and Si3H8 |
| 発表学会名 | International Workshop on Sustainable Energy and Materials (IWSEM2006) |
| 2006/9/5Tokyo,Japan | |
| 題名 | W-CVD using (i-PrCp)2WH2 |
| 発表学会名 | International Workshop on Sustainable Energy and Materials (IWSEM2006) |
| 2006/9/5Tokyo,Japan | |
| 題名 | CVDによるNiシリサイドの堆積(II) |
| 発表学会名 | 第67回応用物理学会学術講演会 |
| 2006/8/31立命館大学 | |
| 題名 | Chemical Vapor Deposition of NiSi using Ni(PF3)4 and Si3H8 |
| 発表学会名 | Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicide 2006 (APAC-silicide 2006) |
| 2006/7/30kyoto, Japan | |
| 題名 | Ultra Low-k Film Deposition By PECVD Using a Novel Organosilane as a Precursor |
| 発表学会名 | 2006 MRS Spring Meeting |
| 2006/4/18San Francisco, CA | |
| 題名 | CVDによるNiシリサイドの堆積 |
| 発表学会名 | 第53回応用物理学会関係連合講演会 |
| 2006/3/24武蔵工業大学 | |
| 題名 | Ni-silicide precursor for gate electrodes |
| 発表学会名 | 27th International Symposium of Dry Process (DPS2006) |
| 2005/11/29Cheju, Korea | |
| 題名 | Chemical Vapor Deposition of Ni-silicide for gate electrodes |
| 発表学会名 | Advanced Metallization Conference 2005 (ADMETA2005) |
| 2005/10/13Tokyo,Japan | |
| 題名 | Composition control of Ni-silicide by CVD using Ni(PF3)4 and Si3H8 |
| 発表学会名 | The 2005 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2005) |
| 2005/9/14Kobe,Japan | |
| 題名 | CVDによるNiシリサイドゲート電極の堆積 |
| 発表学会名 | 第66回応用物理学会学術講演会, |
| 2005/9/10徳島大学 | |
| 題名 | W成膜のための液体CVD原料（i-PrCp）2WH2 |
| 発表学会名 | 第67回応用物理学会学術講演会, |
| 2005/9/10徳島大学 | |
| 題名 | 新規Si化合物を用いたプラズマCVDによるLow-k薄膜の作製 |
| 発表学会名 | 第66回応用物理学会学術講演会, |
| 2005/9/7徳島大学 | |
| 題名 | Nickel thin film deposition using Ni(PF3)4 for LSI electrode |
| 発表学会名 | 207th meeting of Electrochemical society (ECS) |
| 2005/5/17Quebec, Canada | |
| 題名 | Ni(PF3)4を用いたNi薄膜の堆積(II) |
| 発表学会名 | 第52回応用物理学会関係連合講演会 |
| 2005/4/1埼玉大学 | |
| 題名 | Ni Thin Film Deposition using tetrakistrifluorophosphinenickel (0), Ni(PF3)4 |
| 発表学会名 | Advanced Metallization Conference 2004 (ADMETA2004) |
| 2004/9/29Tokyo,Japan | |
| 題名 | Ni(PF3)4を用いたNi薄膜の堆積 |
| 発表学会名 | 第65回応用物理学会学術講演会 |
| 2004/9/2東北学院大学 | |
| 題名 | Surface reactions in Ni MOCVD using cyclopentadienylallylnickel as a precursor |
| 発表学会名 | 14th International Conference on Crystal Growth (ICCG-14) |
| 2004/8/9Grenoble, France | |
| 題名 | MOCVD法によるNiの成膜 |
| 発表学会名 | 第51回応用物理学会関係連合講演会, |
| 2004/3/28東京工科大学 | |
| 題名 | Ni precursor for chemical vapor deposition of NiSi |
| 発表学会名 | The 2003 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2003) |
| 2003/9/17Tokyo,Japan | |
| 題名 | MOCVD法によるNiSi(II)成膜 |
| 発表学会名 | 第64回応用物理学会学術講演会 |
| 2003/8/31福岡大学 | |
| 題名 | Organometallic Hf and Si precursors for Hf1-XSi XO2 thin film formation |
| 発表学会名 | Advanced Metallization Conference 2002 (ADMETA2002) |
| 2002/10/30Tokyo,Japan | |
| 題名 | Organometallic Hf and Si precursors for HfSiO2-CVD and ALD process |
| 発表学会名 | Atomic Layer Deposition Conference (ALD2002) |
| 2002/8/20Seoul, Korea | |
| 題名 | HfO2 and Hf1-xSixO2 deposition by MOCVD using TDEAH |
| 発表学会名 | Advanced Metallization Conference 2001 (ADMETA2001) |
| 2001/10/30Tokyo,Japan | |
| 題名 | MOCVD法によるHfO2膜の堆積(III) |
| 発表学会名 | 第62回応用物理学会学術講演会 |
| 2001/9/2愛知工業大学 | |